E-BEAM蒸發真空鍍膜機
E-BEAM蒸發真空鍍膜機
非標定制設備
電子束蒸發真空鍍膜機是采用電子槍蒸發鍍膜方式，配國產或進口電子槍1臺，可選配1～3組電阻蒸發源，選配離子源用于清洗及輔助鍍膜能力。結構設計合理，性能穩定可靠，操控簡單方便。廣泛應用于科研院所、實驗室制備金屬、化合物（氧化物）、導電薄膜、光學薄膜等。
特點
采用E型電子槍輸出功率穩定，國產優質或進口。
轉動部件采用磁流體引入,長期運轉密封可靠。
工件轉動座運轉平穩可靠，可配行星工件架。
采用PLC+觸摸屏控制, 互鎖保護，可全程自動控制,包括真空系統,烘烤系統,整個蒸發鍍膜過程。
所有零部件均采用國內知名廠家或進口知名品牌,。
應用
科研與教學
主要指標
樣片數量及基臺尺寸： 工件架（根據用戶需求定制）
工藝材料：金屬；非金屬；化合物等薄膜材料。
工藝腔體：304不銹鋼，鏡面拋光
真空系統：各種高，超高真空系統組合。
工件架：可旋轉，轉速可調
加熱：PID控溫加熱，0~350℃
電子槍：E型，帶XY偏轉掃描
電子槍坩堝：6穴至8穴，10~17cc
膜厚監控功能：石英晶控膜厚在線監測
清洗功能：可選配離子源清洗
檢測與控制光學特性功能：可選配光控儀
操作模式：全自動+半自動控制